本課程分為「基礎課程」與「進階課程」兩部分，前兩天為基礎課程，第三天為進階課程。兩部分課程規劃各自完整，學員可依自身背景與需求，選擇單獨參加基礎課程、進階課程，或完整參與三日課程。

基礎課程(8/4~8/5): 涵蓋電漿的物理與化學基礎，並介紹電漿在燃燒、檢測、模擬、推進、氫能、生醫與農藥檢測等領域的應用。課程適合對常壓與低壓電漿有興趣，或正從事電漿相關研究與應用開發的研究者、學生與產業人員。

進階課程(8/6): 聚焦於低壓電漿的物理與化學，以及其在半導體晶片製程中的應用。內容包括低壓電漿蝕刻、電漿源的特性與選擇、圖案轉移與蝕刻輪廓控制，並延伸至先進封裝與 CPO 等新興應用。課程適合半導體製程、光電與先進封裝相關研究者或從業人員，以及希望深入理解低壓電漿製程特性的人員。